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Селюков, Р. В.
| Edição | Seção | Título | Arquivo |
| Volume 54, Nº 3 (2025) | TECHNOLOGIES | Self-assembly of 3D mesostructures using local ion-plasma treatment |
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Palavras-chave
bipolar transistor
dissociation
etching
fluorine atoms
gas temperature
ionization
kinetics
magnetron sputtering
mechanism
memristor
modeling
plasma
polymerization
powerful LDMOS
quantum dot
radiation intensity
reduced electric field strength
resistive switching
silicon
specific power
testing
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Volume 54, Nº 3 (2025)
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gas temperature
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